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    【收藏】EDI 污染判斷及解決方案完整版解析(二)

    發布人:管理員      發布時間:2021-03-15
    6清洗方案 6——嚴重的微生物污堵和結垢

    1、記錄清洗前所有數據。

    2、分離EDI設備與其他設備的連接管路

    3、連接清洗裝置,使清洗泵通過進水管路進入EDI膜塊的淡水室、濃水室,再回到清洗水箱,開啟所有的進出水閥門。

    4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液。

    5、啟動清洗泵,分別調節濃水、進水閥,以規定的流量循環清洗(酸洗步驟)。(參見附表)

    6、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗廢液,分離濃水排水閥至地溝。

    7、向清洗水箱連續注入清水(RO產水),啟動清洗泵連續清洗(沖洗步驟)。

    8、分別檢測淡水、濃水出水側的水質,直至與進水側電導率相近。

    9、在清洗水箱配置2%濃度的鹽(NaCl)清洗液。

    10、啟動清洗泵,調節淡水、濃水進水閥,以規定的流量循環清洗(鹽洗步驟)。(參見附表)

    11、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗廢液,分離產水、濃水排水閥至地溝。

    12、向清洗水箱連續注入清水(RO產水),啟動清洗泵連續清洗(沖洗步驟)。

    13、分別檢測產水、濃水出水側的水質,直至與進水側電導率相近。

    14、在清洗水箱配置0.04%濃度的過氧乙酸(CH3COOOH)+0.2%的過氧化氫(H2O2)清洗液。

    15、啟動清洗泵,分別調節淡水、濃水進水閥,以規定的流量循環清洗(消毒步驟)。(參見附表)

    16、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗廢液,分離濃水排水閥至地溝。

    17、向清洗水箱連續注入清水(RO產水),啟動清洗泵連續清洗(沖洗步驟)。

    18、分別檢測產水、濃水出水側的水質,直至與進水側電導率相近。

    19、在清洗水箱配置2%濃度的鹽(NaCl)清洗液。

    20、啟動清洗泵,調節淡水、濃水進水閥,以規定的流量循環清洗(鹽洗步驟)。(參見附表)

    21、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗廢液,分離產水、濃水排水閥至地溝。

    22、向清洗水箱連續注入清水(RO產水),啟動清洗泵連續清洗(沖洗步驟)。

    23、分別檢測產水、濃水出水側的水質,直至與進水側電導率相近。

    24、調節各個閥門,恢復原始各設計流量數據。

    25、停機,恢復EDI各個管路與其他系統的連接。

    26、開啟PLC控制柜電源,向EDI膜塊送電,進行再生(再生步驟),直至電阻率達到出水要求為止。

    27、轉入正常運行,并作好初次運行的數據記錄。

    7清洗方案 7——極嚴重的微生物污堵

    1、記錄清洗前所有數據。

    2、分離EDI設備與其他設備的連接管路

    3、連接清洗裝置,使清洗泵通過進水管路進入EDI膜塊的淡水室、濃水室,再回到清洗水箱,開啟所有的進出水閥門。

    4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽(NaCl)清洗液。

    5、啟動清洗泵,調節淡水、濃水進水閥,以規定的流量循環清洗(鹽洗步驟)。(參見附表)

    6、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗廢液,分離產水、濃水排水閥至地溝。

    7、向清洗水箱連續注入清水(RO產水),啟動清洗泵連續清洗(沖洗步驟)。

    8、分別檢測產水、濃水出水側的水質,直至與進水側電導率相近。

    9、在清洗水箱配置0.04%濃度的過氧乙酸(CH3COOOH)+0.2%的過氧化氫(H2O2)清洗液。

    10、啟動清洗泵,分別調節淡水、濃水進水閥,以規定的流量循環清洗(消毒步驟)。(參見附表)

    11、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗廢液,分離濃水排水閥至地溝。

    12、向清洗水箱連續注入清水(RO產水),啟動清洗泵連續清洗(沖洗步驟)。

    13、分別檢測產水、濃水出水側的水質,直至與進水側電導率相近。

    14、在清洗水箱配置1%濃度的氫氧化鈉(NaOH)+2%鹽(NaCl)的清洗液。

    15、啟動清洗泵,分別調節濃水、進水閥,以規定的流量循環清洗(堿洗步驟)。(參見附表)

    16、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗廢液,分離濃水排水閥至地溝。

    17、向清洗水箱連續注入清水(RO產水),啟動清洗泵連續清洗(沖洗步驟)。

    18、分別檢測淡水、濃水出水側的水質,直至與進水側電導率相近。

    19、調節各個閥門,恢復原始各設計流量數據。

    20、停機,恢復EDI各個管路與其他系統的連接。

    21、開啟PLC控制柜電源,向EDI膜塊送電,進行再生(再生步驟),直至電阻率達到出水要求為止。

    22、轉入正常運行,并作好初次運行的數據記錄。

    8清洗放案 8——極嚴重的微生物污堵和結垢

    1、記錄清洗前所有數據。

    2、分離EDI設備與其他設備的連接管路

    3、連接清洗裝置,使清洗泵通過進水管路進入EDI膜塊的淡水室、濃水室,再回到清洗水箱,開啟所有的進出水閥門。

    4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液。

    5、啟動清洗泵,分別調節濃水、進水閥,以規定的流量循環清洗(酸洗步驟)。(參見附表)

    6、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗廢液,分離濃水排水閥至地溝。

    7、向清洗水箱連續注入清水(RO產水),啟動清洗泵連續清洗(沖洗步驟)。

    8、分別檢測淡水、濃水出水側的水質,直至與進水側電導率相近。

    9、在清洗水箱配置2%濃度的鹽(NaCl)清洗液。

    10、啟動清洗泵,調節淡水、濃水進水閥,以規定的流量循環清洗(鹽洗步驟)。(參見附表)

    11、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗廢液,分離產水、濃水排水閥至地溝。

    12、向清洗水箱連續注入清水(RO產水),啟動清洗泵連續清洗(沖洗步驟)。

    13、分別檢測產水、濃水出水側的水質,直至與進水側電導率相近。

    14、在清洗水箱配置0.04%濃度的過氧乙酸(CH3COOOH)+0.2%的過氧化氫(H2O2)清洗液。

    15、啟動清洗泵,分別調節淡水、濃水進水閥,以規定的流量循環清洗(消毒步驟)。(參見附表)

    16、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗廢液,分離濃水排水閥至地溝。

    17、向清洗水箱連續注入清水(RO產水),啟動清洗泵連續清洗(沖洗步驟)。

    18、分別檢測產水、濃水出水側的水質,直至與進水側電導率相近。

    19、在清洗水箱配置1%濃度的氫氧化鈉(NaOH)+2%鹽(NaCl)的清洗液。

    20、啟動清洗泵,調節淡水、濃水進水閥,以規定的流量循環清洗(堿洗步驟)。(參見附表)

    21、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗廢液,分離產水、濃水排水閥至地溝。

    22、向清洗水箱連續注入清水(RO產水),啟動清洗泵連續清洗(沖洗步驟)。

    23、分別檢測產水、濃水出水側的水質,直至與進水側電導率相近。

    24、調節各個閥門,恢復原始各設計流量數據。

    25、停機,恢復EDI各個管路與其他系統的連接。

    26、開啟PLC控制柜電源,向EDI膜塊送電,進行再生(再生步驟),直至電阻率達到出水要求為止。

    27、轉入正常運行,并作好初次運行的數據記錄。

    下面是清洗方案選擇表

    各清洗方案的主要操作步驟:

    各清洗方法時間

    單個模塊清洗時藥液配用量

    注:對于膜塊數量大于 1 塊時,按表中配液的數量乘以膜塊數量。

    清洗用化學藥品規格所有化學藥品必須使用推薦的等級或高于推薦的等級

    安全注意事項

    1、在配置清洗藥液時,必須穿戴好防護服、防護眼鏡和防護手套。

    2、需要清洗的設備管路必須是與其他連接設備的連接管路完全隔離的。

    3、需要清洗的設備其電源必須是完全切斷并有“正在操作,不得送電”的安全警示。

    4、整個清洗過程中清洗的工作壓力不能超過 0.15MPa。

    清洗設備組件

    1、清洗循環泵(耐腐蝕泵)

    2、清洗水箱(PP)

    3、耐腐蝕清洗軟管(與清洗泵適配)

    4、耐腐蝕閥門(UPVC)

    5、耐腐蝕壓力表

    6、過濾器(≤1μm)

    工具:pH 試紙(廣泛);溫度計;計時表


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